Auf der Produktionsfläche reicht bereits eine Temperaturdifferenz von 0,5 °C über dem Wafer aus, um zu einer Veränderung der Linienbreite sowie zu Ausschuss zu führen. Wir haben diese Heizplattform entwickelt, um das thermische Verhalten innerhalb des gewünschten Bereichs beizubehalten – Schicht für Schicht.
Was wirklich wichtig ist: Wir halten eine gleichmäßige Temperatur von ±0,1 °C über dem Wafer aufrecht. Die Genauigkeit der Einstellung bleibt ebenfalls innerhalb dieses Bereichs. Die Plattform ist für Reinräume konzipiert – sie eignet sich für Klassen 1–100 – und erzeugt keine Partikel.
Kurzwelliges und mittelwelliges Infrarot sowie Quarzkern-Heizzonen sorgen für eine schnelle, kontaktlose Wärmeabgabe. So kann man die Temperatur kontrollieren, ohne die Oberfläche des Wafers zu beschädigen. Die verschiedenen Heizprofile sorgen dafür, dass die Prozesse stabiler ablaufen – dadurch wird die Aufwärmzeit sowie der Energieverbrauch reduziert.
Warum das in der Lithografie wichtig ist: In der Lithografie bedeutet diese Präzision weniger Nacharbeiten, eine geringere Defektdichte sowie eine konstante Kontrolle der Linienbreite. Eine bessere Temperaturregulierung verbessert außerdem die Leistung des Photoresists und verringert die Varianzen an den Rändern der Linien – es sind also keine chemischen Anpassungen nötig.
Der Energieverbrauch sinkt, da die Plattform schnell auf die gewünschte Temperatur kommt und diese auch behält, ohne überzugehen. Sie ist so konzipiert, dass sie rund um die Uhr betrieben werden kann, mit minimalem Stillstand. Das Ergebnis ist eine höhere Produktivität, weniger Ausschuss sowie niedrigere Kosten pro Wafer.
Was man im Voraus planen muss: Die Plattform benötigt eine eigene Stromversorgung sowie eine saubere, trockene Luftzufuhr, um die thermische Stabilität und die Einhaltung der Reinraumbedingungen zu gewährleisten. Die Installationsanforderungen sind streng – man sollte daher einen geeigneten Platz einplanen, der zur Anschlussfläche passt.
Es wird vorausgesetzt, dass die Einrichtungszeit kurz ist, damit die jeweiligen Heizprofile genau auf den Photoresist abgestimmt werden können. Sobald die Plattform kalibriert ist, bleibt der Prozess stabil.