Di lantai pabrik, perubahan suhu sebesar 0,5°C saja sudah cukup untuk menyebabkan gangguan pada proses pembakaran fotoresist, sehingga menghasilkan produk yang tidak berkualitas. Kami merancang platform pemanas ini agar pola suhu tetap berada dalam rentang yang ditentukan, dari satu siklus produksi ke siklus produksi berikutnya.
Yang penting adalah konsistensi suhu
Kami mempertahankan konsistensi suhu sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer. Nilai titik referensi suhu juga tetap berada dalam rentang yang sama. Platform ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan partikel tambahan saat beroperasi.
Penggunaan sinar inframerah berfrekuensi pendek dan menengah, beserta zona pemanas yang terisolasi dengan kuarsa, memungkinkan respons termal yang cepat tanpa kontak fisik. Anda dapat mengontrol suhu tanpa merusak permukaan wafer. Profil pemanasan yang tepat memastikan konsistensi hasil produksi dari satu siklus ke siklus berikutnya. Sistem ini juga mampu menstabilkan suhu dengan cepat, sehingga waktu pemanasan dan konsumsi energi menjadi lebih rendah.
Mengapa hal ini penting dalam proses litografi
Dalam proses litografi, tingkat presisi yang tinggi berarti lebih sedikit produk yang perlu diperbaiki, tingkat kecacatan yang lebih rendah, serta kontrol ketepatan dimensi yang lebih baik. Kontrol suhu yang ketat juga meningkatkan kinerja fotoresist dan mengurangi variasi pada bagian tepi wafer—tanpa perlu melakukan penyesuaian kimia apa pun.
Konsumsi energi berkurang karena platform ini mampu mencapai titik suhu yang ditentukan dengan cepat dan mempertahankannya tanpa melampaui batas yang ditentukan. Platform ini dirancang untuk beroperasi 24/7 dengan minim gangguan. Hasilnya adalah tingkat produktivitas yang lebih tinggi, lebih sedikit limbah, dan biaya per wafer yang lebih rendah.
Apa yang perlu dipersiapkan terlebih dahulu
Platform ini membutuhkan pasokan daya yang khusus, serta pasokan udara yang bersih dan kering agar stabilitas suhu tetap terjaga. Toleransi pemasangan harus sangat ketat—sesuaikan posisi platform dengan antarmuka yang telah ditentukan.
Waktu pelatihan untuk menyesuaikan profil pemanasan agar sesuai dengan jenis fotoresist yang digunakan akan relatif singkat. Setelah dikalibrasi, proses produksi akan berjalan secara konsisten.