Pada garis pengeluaran 300mm, masa henti yang tidak dirancang serta kehadiran zarah-zarah halus merupakan masalah utama. Selama bertahun-tahun, ketuhar konveksial digunakan untuk proses pengeringan dan pembakaran, namun prosesnya lambat, terdapat perbezaan suhu yang ketara, dan aliran udara boleh menyebabkan zarah-zarah halus muncul, sehingga menjejaskan kualiti produk. Apabila masa proses diukur dalam saat dan darjah Celsius, teknologi inframerah memberikan profil haba yang lebih baik – cepat, tepat, dan bersih.
Dari segi teknikal, yang penting adalah laluan haba. Teknologi inframerah memanaskan permukaan wafer secara langsung, menggunakan pancaran gelombang pendek atau sederhana untuk memastikan pemanasan yang cepat dan terkawal. Ini membolehkan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, serta proses pembakaran yang konsisten. Selain itu, waktu pemulihan setelah pintu dibuka juga sangat singkat. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai kerana tiada kipas yang beroperasi, dan laluan cahaya tertutup rapat, sehingga penghasilan zarah-zarah halus hampir tidak ada. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana tenaga digunakan untuk memanaskan wafer, bukan dinding bilik atau udara di dalamnya.
Dalam proses litografi, masa siklus dan kawalan kecacatan merupakan faktor penting. Modul inframerah boleh digunakan dalam stesen pembakaran yang berdiri sendiri, sehingga proses pembakaran dan pengeringan dapat dilakukan dengan lebih efektif, tanpa merosakkan lapisan fotoresep. Hasilnya adalah kawalan dimensi yang lebih baik, kepadatan kecacatan yang lebih rendah, serta proses yang stabil dari satu batch ke batch yang lain.
Jika anda menghasilkan produk dalam kuantiti yang besar, kebolehpercayaan mesin ini tetap tinggi: mesin ini boleh beroperasi selama 5,000 jam atau lebih, dengan penurunan kualiti produk kurang dari 5%. Ini memungkinkan operasi 24/7. Ini merupakan alternatif yang efektif kepada teknologi konveksial tradisional, sesuai dengan standard peralatan antarabangsa, dan telah terbukti berkesan dalam pengeluaran sebenar.
Perlu diingat bahawa teknologi inframerah sangat berguna untuk lapisan tipis dan fotoresep, apabila diperlukan pemanasan permukaan yang cepat dan seragam. Namun, perlu dikawal kadar emisi dan pantulan cahaya pada permukaan substrat tersebut. Pelaksanaannya memerlukan penyesuaian spektrum pancaran dengan lapisan film yang digunakan, serta penyesuaian pengukuran suhu mengikut wafer, bukan panggung tempat wafer diletakkan. Proses penyesuaian ini mudah, tetapi perlu direncanakan agar profil haba dapat disesuaikan dengan baik.