Bij de 300mm-productie is ongeplande stilstand en het voorkomen van deeltjes grote problemen. Conventionele ovens worden al jaren gebruikt voor het drogen en bakken van producten, maar hun verhittingsproces is traag. Bovendien kunnen de luchtvloeden deeltjes veroorzaken, waardoor de kwaliteit van het product niet voldoet aan de vereisten. Wanneer de verwerkingstijd in seconden en graden wordt gemeten, biedt infraroodverwarming een beter resultaat: snel, efficiënt en nauwkeurig.
Wat technisch gezien belangrijk is, is de manier waarop de warmte wordt overgedragen. Infraroodverwarming bereikt rechtstreeks het oppervlak van de chip, met behulp van korte- of middellange golflengten. Hierdoor wordt er snel en controleerder verwarmd. Er wordt een uniforme temperatuur gecreëerd, binnen een marge van ±0,1°C. Ook is het mogelijk om herhaalbaar te bakken en te drogen. Na het openen van de deur kan het systeem zich binnen seconden herstellen. Het is mogelijk om een schone omgeving te creëren (klasse 1–100), omdat er geen circulerende ventilatoren zijn en de optische paden afgesloten zijn. Hierdoor neemt de productie van deeltjes bijna nul toe. Ook wordt er minder energie verbruikt, omdat de energie rechtstreeks naar de chip gaat, in plaats van naar de wanden van de kamer en de lucht.
In lithografische apparaten zijn tijd en defectcontrole cruciaal. Infraroodmodules kunnen worden ingezet in spin-track-systemen en aparte bakstations. Hierdoor kunnen de bewerkingsschappen sneller worden uitgevoerd, zonder dat de fotoresist beschadigd raakt. Het resultaat is een betere controle over de kritieke dimensies, een lagere defectdichtheid en een stabiele verwerkingstijd.
Als je op grote schaal producteert, blijft de betrouwbaarheid hoog: de apparaten kunnen meer dan 5.000 uur werken zonder dat de productie met meer dan 5% afneemt. Dit maakt 24/7-productie mogelijk. Het gaat hier om een geavanceerde oplossing die voldoet aan internationale standaarden en is al in de praktijk getest.
Het is belangrijk om te onthouden dat infraroodverwarming ideaal is voor dunne lagen en fotoresist wanneer je snel en gelijkmatig wilt verwarmen. Je moet echter de emissiviteit en reflectiviteit van de verschillende ondergronden goed controleren. De implementatie vereist dat het spectrum van de emitter wordt aangepast aan de laagstructuur van de chip, en dat de temperatuurmetingen worden gekalibreerd op de chip zelf, en niet op het platform waarop de chip zich bevindt. De installatie is eenvoudig, maar het is belangrijk om voldoende tijd in te plannen voor het kalibreren van het systeem.