Trong quy trình sản xuất, chỉ cần sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C trên bề mặt wafer thôi cũng đủ để gây ra những sai lệch về kích thước các đường nét trên wafer, dẫn đến việc phải loại bỏ wafer đó đi. Chúng tôi thiết kế nền tảng gia nhiệt này nhằm duy trì nhiệt độ ổn định trong suốt quá trình sản xuất.
Điều quan trọng nhất là gì? Chúng tôi đảm bảo rằng nhiệt độ trên bề mặt wafer luôn ở mức ±0,1°C, và độ ổn định của nhiệt độ này cũng nằm trong khoảng cho phép. Nền tảng gia nhiệt này được thiết kế dành cho môi trường phòng sạch loại 1–100; nó hoạt động mà không tạo ra bất kỳ hạt bụi nào.
Ánh sáng hồng ngoại tia ngắn và tia trung bình, kết hợp với các khu vực gia nhiệt được cách ly bằng thạch anh, giúp tạo ra hiệu ứng gia nhiệt nhanh chóng và không tiếp xúc trực tiếp với bề mặt wafer. Bạn có thể kiểm soát nhiệt độ một cách chính xác mà không làm hư hại bề mặt wafer. Các chương trình gia nhiệt được thiết kế sao cho hiệu suất của quy trình luôn ổn định, giúp giảm thời gian khởi động và tiết kiệm năng lượng.
Tại sao nền tảng này lại được ưa chuộng trong quy trình in ấn? Trong quy trình in ấn, độ chính xác cao của nền tảng này giúp giảm số lần phải sửa chữa wafer, giảm tỷ lệ lỗi, và giúp kiểm soát độ chính xác của các đường nét trên wafer. Việc kiểm soát nhiệt độ chính xác giúp cải thiện hiệu suất của chất ức chế ánh sáng và giảm sự biến đổi về kích thước các đường nét trên wafer – không cần phải điều chỉnh thành phần hóa học nào cả.
Năng lượng tiêu thụ cũng giảm đi vì nền tảng này có thể đạt được nhiệt độ yêu cầu một cách nhanh chóng và duy trì nhiệt độ đó mà không có sự sai lệch. Nền tảng này được thiết kế để hoạt động 24/7 với ít sự gián đoạn nhất có thể. Kết quả là hiệu suất sản xuất tăng lên, lượng wafer bị hỏng giảm, và chi phí sản xuất mỗi wafer cũng giảm xuống.
Những điều cần lưu ý trước khi sử dụng Nền tảng này cần có nguồn điện riêng và nguồn không khí sạch, khô để đảm bảo độ ổn định về nhiệt độ và tuân thủ các tiêu chuẩn của phòng sạch. Độ chính xác trong việc lắp đặt rất quan trọng – bạn cần lên kế hoạch lắp đặt sao cho phù hợp với các tiêu chuẩn kỹ thuật đã định.
Thời gian cần thiết để điều chỉnh nền tảng này sao cho phù hợp với các thông số kỹ thuật của chất ức chế ánh sáng khá ngắn. Một khi đã được điều chỉnh xong, quy trình sản xuất sẽ diễn ra ổn định.