Wafle on Warm IR Heating Rays

Ohřívač pro průmyslový systém sušení čipů

Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800

V provozu výrobní linky stačí odchylka teploty v sušicí komoře o méně než 1 °C k znehodnocení celé série výrobků. Wafery vyjdou z čisté komory stále s určitým množstvím vlhkosti, a následující kroky – měkké sušení, tvrdé sušení nebo odstranění zbytkových částic na okrajích waferů – neumožňují žádné teplotní odchylky. Naše průmyslové zařízení na sušení waferů je navrženo tak, aby se s touto situací vyrovnalo, nikoliv aby s ní bojovalo až po skončení procesu.

Co je důležité uvnitř zařízení
Zařízení využívá krátkovlnné infračervené elementy, které reagují rychle a udržují stabilní teplotu. V celé aktivní oblasti zůstává rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1 °C, takže profily fotorezistorů se mezi jednotlivými sériemi výrobků nemění. Zařízení je vhodné pro použití v čistých prostorách od třídy 1 do třídy 100 – využívá materiály s nízkou úrovní uvolňování plynů a povrchovou úpravu, která neuvolňuje částice. V provozuschopných instalacích fungují tato zařízení nepřetržitě bez plánovaných přestávek, přičemž opakovatelnost teploty zůstává stabilní i po tisících cyklech.

Ohřívač na úrovni čipu CSP (Chip Scale Package)

Mon, 22 Jun 2026 19:08:36 +0800

V prostředí litografie nemá 300mm velký čip čas na to, aby se pec stačila přizpůsobit. Neférové zahřívání se projevuje změnami šířky linií. Rozptyly při silném zahřívání zase způsobují problémy. A pomalé sušení? To zanechává stopy vody, které snižují kvalitu výrobku. Naše infračervené ohřívače určené k použití na úrovni čipu jsou právě proto – umožňují rychlé a kontrolované zahřívání tam, kde to proces vyžaduje.

Co je technicky důležité
Používáme krátkovlnné infračervené záření s rychlou reakcí a přesnou spektrální kontrolou. Energie tak působí pouze na fotorezistent a čip, nikoli na ostatní komponenty. V celé aktivní oblasti je dosažena rovnoměrnost teploty na úrovni ±0,1°C. Profily zahřívání jsou konstantní při každém provozu.

Infračervené záření oproti konvekci při sušení polovodičových desek

Thu, 18 Jun 2026 01:10:07 +0800

V řadě 300 mm jsou neplanované přerušení provozu a částice hlavními problémy. Konvekční pece sloužily k sušení a vypalování po celá léta, ale jejich proces je pomalý, dochází k odchylkám v teplotách a proudění vzduchu může zvednout částice, což ovlivňuje kvalitu výsledku. Když se proces měří v sekundách a stupních, infračervené záření nabízí jiný termální profil – rychlý, přímý a efektivní.

Z technického hlediska je důležitá cesta tepla. Infračervené záření působí přímo na povrch čipu, pomocí krátkovlnných nebo střednovlnných emitérů nastavených na rychlé a kontrolované ohřevy. Díky tomu je dosažena rovnoměrnosti teploty na úrovni čipu v rozmezí ±0,1 °C, možnost opakovaného vypalování a sušení, a také velmi rychlé obnovení normálních podmínek po otevření dveří. Je možné dosáhnout čistoty typu 1–100, protože nejsou tam žádné ventilátory pro recirkulaci vzduchu a optické cesty jsou uzavřené, takže vznik částic je téměř nulový. Spotřeba energie také klesá, protože energie putuje do čipu, nikoliv do stěn komory a do vzduchu.