Beschichtungs Entwickler Infrarotheizer

Wed, 24 Jun 2026 01:03:51 +0800

Auf der Lithografie-Ebene kann man sich nicht vor Temperaturunterschieden verstecken. Selbst geringfügige Abweichungen im Heizprozess führen zu Abweichungen in den Abmessungen des Wafers. Die Beschichtungs- und Entwicklungsanlage hört nicht auf zu arbeiten, solange der Ofen noch nicht auf die richtige Temperatur gekommen ist. Wenn der Heizer die eingestellte Temperatur nicht konstant halten kann, ändert sich das Profil des Photoresists – und damit auch die Anzahl der Defekte.

Was wir gebaut haben – und warum das wichtig ist
Wir haben diesen Infrarotheizer auf der Basis von Kurzwellenlampen sowie eines quartzschnellen Wärmeübertragungssystems entwickelt. Entscheidend sind hier die Reaktionszeit sowie die Kontrolle der Temperatur. Die Homogenität der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers bleibt bei ±0,1°C – dadurch bleiben die Ergebnisse beim Weichen- und Hartbrennen von Lot zu Lot konstant. Der Heizer kann in Reinräumen der Klasse 1–100 eingesetzt werden, da seine Konstruktion dazu dient, keine Partikel zu erzeugen – es kommt weder zu Ausgasungen noch zu Verunreinigungen des Photoresists. Die Zuverlässigkeit hängt von der Betriebszeit ab: Die Komponenten sind dafür geeignet, 24/7 zu arbeiten. Zudem hält das Wärmesystem die eingestellte Temperatur konstant – ohne die Abweichungen, die bei älteren Heizsystemen auftreten.

Beschichter on Warm IR Heating Rays

Beschichtungs Entwickler Infrarotheizer