Heizgerät für industrielle Wafer Trocknungssysteme

Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800

In der Produktion reicht bereits eine Temperaturschwankung von unter 1°C in der Trocknungskammer aus, um ganze Charge von Wafern unbrauchbar zu machen. Die Wafer verlassen die Reinraumumgebung mit noch vorhandener Feuchtigkeit – und die anschließenden Bearbeitungsschritte wie Weichbrennen, Hartbrennen oder Entfernung von Randpartikeln lassen keinen Spielraum für Temperaturschwankungen. Unsere industriellen Heizsysteme für die Trocknung von Wafern sind daher so konzipiert, dass sie mit dieser Realität umgehen können – anstatt danach versuchen zu müssen, sie auszugleichen.

Was wirklich wichtig ist: Der Heizer nutzt Kurzwellen-Infrarotelemente, die schnell reagieren und eine stabile Temperatur halten. In der aktiven Zone bleibt die Homogenität der Temperatur bei ±0,1°C – dadurch ändern sich die Eigenschaften des Fotolacks nicht von Charge zu Charge. Die Geräte sind für Reinräume der Klassen 1 bis 100 geeignet; dazu werden Materialien mit geringer Gasemission sowie eine Oberflächenbeschichtung verwendet, die keine Partikel freisetzt. In qualifizierten Anlagen arbeiten diese Geräte rund um die Uhr ohne unplanmäßige Ausfälle – und die Temperaturgenauigkeit bleibt auch nach tausenden von Zyklen konstant.

Industriell on Warm IR Heating Rays

Heizgerät für industrielle Wafer Trocknungssysteme