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		<title>Skala on Warm IR Heating Rays</title>
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				<title>Heizung auf Wafer Ebene für CSP (Chip Scale Package)</title>
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				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:08:34 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Heizung auf Wafer Ebene für CSP (Chip Scale Package)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Lithografieebene hat ein 300-mm-Wafer &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;keine&lt;/a&gt; Zeit, bis das Ofenmaterial mit der Erwärmung nachkommt. Ein zu langsames Erhitzen führt zu Schwankungen in der Linienbreite. Zu schnelles Erhitzen wiederum verursacht Unreinheiten auf der Oberfläche des Wafers. Und langsameres Trocknen hinterlässt Wasserflecken, die die Qualität des Wafers beeinträchtigen. Wir haben unseren Infrarotheizer für den Wafer-Niveau-Betrieb genau für solche Situationen entwickelt – schnelle, kontrollierte Erwärmung genau dort, wo sie benötigt wird.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;technisch&lt;/a&gt; wichtig ist:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir nutzen kurzwelliges Infrarotlicht mit schneller Reaktionszeit und präziser Spektralkontrolle. Dadurch gelangt die Energie direkt in den Fotolack und den Wafer – nicht in die Geräte selbst. Über die gesamte aktive Fläche hinweg herrscht eine Homogenität von ±0,1°C. Zudem sind die Erwärmungsprofile so gestaltet, dass sie bei jeder Ausführung gleich bleiben.&lt;/p&gt;</description>
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