http://warm-ir-heater-ray.com/fa/tags/%D9%85%D9%86%D8%B7%D9%82%D9%87%D8%A8%D9%86%D8%AF%DB%8C%D8%B4%D8%AF%D9%87/ Recent content in منطقهبندیشده on Warm IR Heating Rays Hugo fa Fri, 26 Jun 2026 01:28:32 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/fa/posts/zoned-infrared-heating-module/ Fri, 26 Jun 2026 01:28:32 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/fa/posts/zoned-infrared-heating-module/ <p><img src="http://warm-ir-heater-ray.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="ماژول گرمایش مادون قرمز با مناطق تنظیمشده"></p> <p>در فرآیند لیتوگرافی، مراحل پخت نرم و سخت، صرفاً مراحل حرارتی نیستند؛ بلکه این مراحل، محدودیت‌های ابعادی مهمی را تعیین می‌کنند. تغییر دما در حدود ۲ درجه سانتی‌گراد می‌تواند باعث تغییر ابعاد کلیدی ویفر شود؛ همچنین، وجود یک ذره در منطقه داغ می‌تواند باعث خرابی کل ویفر شود. بنابراین، ما یک ماژول گرمایشی مبتنی بر اشعه مادون قرمز طراحی کردیم؛ این ماژول، دما را در نقاط مهم تنظیم می‌کند، بدون ایجاد آلودگی.</p> <p>این ماژول از فرستنده‌های اشعه مادون قرمز کوتاه‌امواج استفاده می‌کند؛ این فرستنده‌ها در مناطقی که به صورت جداگانه کنترل می‌شوند، قرار دارند. در سطح ویفر، یکنواختی دما در حدود ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد است؛ همچنین، تکرارپذیری دما در بین دسته‌های مختلف، در حدود ±۰.۲ درجه سانتی‌گراد است. منطقه داغ نیز تمیز باقی می‌ماند؛ زیرا از قطعات کوارتز و بازتابنده‌هایی استفاده شده است که باعث کاهش گازهای تولید شده می‌شوند. همچنین، در حین عملکرد پایدار، هیچ ذره‌ای تولید نمی‌شود. در اتاق‌های تمیز کلاس ۱–۱۰۰، این ماژول، پروفایل‌های پخت پایداری را حفظ می‌کند و تعداد ذرات نیز افزایش نمی‌یابد. همچنین، تغییرات ابعادی درون یک دسته از ویفرها نیز کاهش می‌یابد.</p>