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		<title>Ampoule on Warm IR Heating Rays</title>
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				<title>Ampoule émettrice proche infrarouge (PIR)</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Ampoule émettrice proche infrarouge (PIR)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur l’étage de lithographie, la dérive est inacceptable. Un décalage de 0,3 °C pendant la cuisson du photoresist suffit à compromettre une série complète de plaquettes de 300 mm. Il faut une chaleur qui se dépose exactement là où le process le demande, à chaque changement de poste, à chaque lot.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui importe en interne&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Nous utilisons une lampe émettrice proche infrarouge (NIR) qui fournit une uniformité submillimétrique, grâce à une émission spectrale contrôlée et à une géométrie de réflecteur conçue avec précision, sans approximation. Le champ thermique se projette clairement sur la plaquette avec une chute minimale en bordure, garantissant le respect des marges thermiques strictes. La réponse se fait en millisecondes, ce qui évite tout dépassement de température.&lt;/p&gt;</description>
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