<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Chaleur on Warm IR Heating Rays</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ray.com/fr/tags/chaleur/</link>
		<description>Recent content in Chaleur on Warm IR Heating Rays</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ray.com/fr/tags/chaleur/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Support technique pour le chauffage des wafers</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ray.com/fr/posts/technical-support-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ray.com/fr/posts/technical-support-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Support technique pour le chauffage des wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plan de fabrication, une variation de température de 0,5 °C sur toute la surface de la puce suffit pour que le processus de cuisson du photorésiste échoue, entraînant ainsi des écarts dans les dimensions des lignes tracées et des déchets en trop. Nous avons conçu &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;cette&lt;/a&gt; plateforme de chauffage afin de maintenir les conditions thermiques dans les limites prévues, d’une séance à l’autre.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ce qui est important&lt;/strong&gt;&#xA;Nous parvenons à maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la surface de la puce. La répétabilité de la température de référence reste également dans cette même marge. La plateforme est conçue pour fonctionner dans des environnements propres, de classe 1 à 100 ; elle ne produit aucune particule indésirable.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
