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		<title>Contro on Warm IR Heating Rays</title>
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				<title>Infrarossi contro convettione per l essiccazione dei wafer</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ray.com/it/posts/infrared-vs-convection-for-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:10:06 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Infrarossi contro convettione per l essiccazione dei wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;Nella&lt;/a&gt; linea di produzione da 300 mm, i tempi di fermo non pianificati e la presenza di particelle rappresentano dei problemi significativi. Da anni si utilizzano forni a convezione per il processo di essiccazione e cottura, ma il loro funzionamento è lento; inoltre, può verificarsi una deviazione nella temperatura, e il flusso d’aria può sollevare particelle che influiscono negativamente sulla qualità del prodotto finale. Quando i tempi di processo vengono misurati in secondi e gradi, l’uso delle radiazioni infrarosse permette di ottenere un profilo termico migliore: più veloce, preciso e efficace.&lt;/p&gt;</description>
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