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		<title>Industriale on Warm IR Heating Rays</title>
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				<title>Riscaldatore per sistema di essiccazione dei wafer industriali</title>
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				<pubDate>Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per sistema di essiccazione dei wafer industriali&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nelle linee di produzione, anche una variazione di temperatura inferiore a 1°C nella camera di essiccazione può essere sufficiente per rendere interi lotti non utilizzabili. Le wafer escono dalla camera pulita ancora contenenti tracce di umidità; quindi, nelle fasi successive – come la cottura a bassa o alta temperatura o la rimozione delle impurità presenti sui bordi delle wafer – non c’è spazio per eventuali variazioni termiche. Abbiamo progettato il nostro sistema di riscaldamento per adattarsi a questa realtà, invece di cercare di contrastarla a posteriori.&lt;/p&gt;</description>
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