Mengapa kita beralih kepada kaedah pengeringan menggunakan gelombang inframerah untuk semikonduktor tanpa plumbum
Reka bentuk alat yang digunakan untuk memproses wafer kini agak rumit. Dengan adanya peraturan-peraturan baru yang mewajibkan penggunaan bahan-bahan bebas plumbum dan mesra alam, proses pengeringan dan penyempurnaan struktur semikonduktor menjadi semakin sukar. Kebanyakan orang masih menggunakan ketuhar konvensional lama, tetapi sebenarnya ia hanyalah pemanas besar yang memanaskan seluruh bilik. Ini merupakan pembaziran tenaga, dan malah boleh menyebabkan kerosakan pada permukaan wafer.
Itulah sebabnya kita menggunakan kaedah pengeringan menggunakan gelombang inframerah. Ia lebih efektif.
Semuanya bergantung pada di mana haba itu dialirkan
Bayangkanlah perbezaan antara ketuhar gelombang mikro dan ketuhar tradisional. Gelombang inframerah tidak memanaskan udara, sebaliknya ia langsung menyerap haba pada lapisan fotoresist atau lapisan pelekat pada wafer. Dengan cara ini, suhu yang diinginkan dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, bukan minit-minit.
Inilah rahsianya untuk mencapai matlamat penggunaan tenaga yang mesra alam tanpa perlu berusaha terlalu keras. Anda tidak perlu membayar untuk memanaskan dinding mesin atau udara di sekelilingnya. Tenaga tersebut digunakan tepat di tempat yang diperlukan. Selain itu, kerana prosesnya sangat cepat, anda tidak perlu menghabiskan masa yang lama untuk menyejukkan wafer sebelum ia diproses selanjutnya.
Membersihkan bahan kimia
Penggunaan bahan semikonduktor tanpa plumbum bukan sekadar bertukar bahan solder sahaja. Anda juga perlu mempertimbangkan keseluruhan proses kimia yang digunakan. Dengan menggunakan gelombang inframerah, kita boleh menyesuaikan panjang gelombangnya agar sesuai dengan keperluan bahan yang digunakan untuk proses penyempurnaan struktur semikonduktor. Ini membolehkan proses polimerisasi berlaku dengan lancar, tanpa merosakkan permukaan wafer. Ia juga menghalang pelepasan bahan organik volatil yang berbahaya, yang biasanya berlaku apabila suhu menjadi terlalu tinggi.
Kelemahan kaedah ini
Tetapi, tahap ketepatan yang tinggi ini memerlukan kita untuk lebih berhati-hati. Kerana gelombang inframerah sangat cepat, ada risiko bahawa lapisan atas wafer akan mengeras terlebih dahulu, sehingga menyebabkan pelarut tertinggal di bawahnya. Ini tentunya tidak baik. Anda perlu memastikan bahawa penempatan sensor dan profil suhu adalah betul untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku. Jika sistem PID tidak berfungsi dengan baik, suhu wafer akan melebihi had yang ditetapkan, dan wafer akan rosak.
Kita reka sistem ini agar ia dapat menggantikan alat pemanas lama yang digunakan sebelum ini. Perlu diingat, pastikan kipas penyejuk mampu menghadapi lonjakan suhu yang cepat di bahagian tepi wafer.