Mengeringkan on Warm IR Heating Rays

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Thu, 09 Jul 2026 14:53:33 +0800

Pendahuluan
Mari kita bincangkan apa yang akan berlaku apabila laluan pengeringan wafer sensor MEMS beroperasi pada tahap maksimum. Suhu akan meningkat dengan drastik, dan sistem tersebut akan beroperasi hingga ke batasnya yang maksimum.

Inilah situasi yang sangat buruk: lampu inframerah boleh meletup. Bukan sahaja ia tidak berfungsi, tetapi ia juga akan pecah, sehingga serpihan-serpihan tersebut akan berselerak di atas wafer yang masih baik-baik saja. Ini merupakan situasi yang sangat merugikan.

Kami telah reka mesin pemanas inframerah ini agar situasi seperti ini tidak berlaku. Ia direka untuk menghasilkan haba yang kuat dan terfokus, supaya proses pengeringan dapat dilakukan dengan cepat, tanpa risiko kegagalan yang serius.

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Fri, 03 Jul 2026 03:16:48 +0800

Jika anda berjalan di kawasan pengeluaran tersebut untuk jangka masa yang lama, anda akan belajar untuk memperhatikan perkara-perkara yang mungkin diabaikan. Proses pengeringan wafer sahaja boleh menggunakan lebih banyak tenaga daripada yang ditunjukkan dalam angka-angka yang terdapat dalam laporan kewangan. Selain itu, perubahan suhu secara beransur-ansur juga boleh merosakkan integriti bahan fotoresist. Kita sering menyaksikan masalah seperti perubahan profil suhu semasa proses pembakaran, kekurangan konsistensi dalam proses penyingkiran pelarut, serta peningkatan jumlah zarah-zarah kecil setiap kali proses berlaku. Akibatnya, produk yang dihasilkan menjadi tidak berkualiti, memerlukan pembaikan, dan tenaga yang digunakan juga sia-sia.

Pemanas untuk sistem pengeringan wafer industri

Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800

Di bilik pengeringan tersebut, perubahan suhu sebanyak kurang dari 1°C sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer yang diproses. Wafer yang keluar dari bilik pengeringan masih mengandungi sedikit kelembapan. Langkah seterusnya, seperti proses pembakaran atau pembersihan permukaan wafer, memerlukan suhu yang stabil. Oleh itu, sistem pemanas yang digunakan dalam sistem pengeringan wafer ini direka untuk berfungsi dengan baik dalam keadaan seperti ini, bukannya untuk menangani masalah yang timbul selepas proses pengeringan selesai.

Apa yang penting dalam sistem ini
Pemanas ini menggunakan unsur-unsur inframerah gelombang pendek yang dapat bertindak dengan cepat dan memberikan suhu yang stabil. Di kawasan yang aktif, keseragaman suhu wafer kekal pada tahap ±0.1°C, sehingga profil lapisan fotoresist tidak berubah dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Reka bentuk sistem ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih yang berada dalam kelas 1 hingga 100. Bahan-bahan yang digunakan juga tidak menghasilkan gas berbahaya, dan permukaannya tidak akan melepaskan zarah-zarah kecil. Dalam sistem yang teruji, unit ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan ketepatan suhu tetap terjaga walaupun setelah ribuan kitaran pengeringan.

Inframerah berbanding kaedah konveksi untuk pengeringan wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:10:07 +0800

Pada garis pengeluaran 300mm, masa henti yang tidak dirancang serta kehadiran zarah-zarah halus merupakan masalah utama. Selama bertahun-tahun, ketuhar konveksial digunakan untuk proses pengeringan dan pembakaran, namun prosesnya lambat, terdapat perbezaan suhu yang ketara, dan aliran udara boleh menyebabkan zarah-zarah halus muncul, sehingga menjejaskan kualiti produk. Apabila masa proses diukur dalam saat dan darjah Celsius, teknologi inframerah memberikan profil haba yang lebih baik – cepat, tepat, dan bersih.

Dari segi teknikal, yang penting adalah laluan haba. Teknologi inframerah memanaskan permukaan wafer secara langsung, menggunakan pancaran gelombang pendek atau sederhana untuk memastikan pemanasan yang cepat dan terkawal. Ini membolehkan keseragaman suhu pada tahap wafer sekitar ±0.1°C, serta proses pembakaran yang konsisten. Selain itu, waktu pemulihan setelah pintu dibuka juga sangat singkat. Kelas bilik bersih 1–100 dapat dicapai kerana tiada kipas yang beroperasi, dan laluan cahaya tertutup rapat, sehingga penghasilan zarah-zarah halus hampir tidak ada. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana tenaga digunakan untuk memanaskan wafer, bukan dinding bilik atau udara di dalamnya.