<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Modul on Warm IR Heating Rays</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ray.com/ms/tags/modul/</link>
		<description>Recent content in Modul on Warm IR Heating Rays</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:28:32 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ray.com/ms/tags/modul/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Modul pemanasan inframerah berzon</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/zoned-infrared-heating-module/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:28:32 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/zoned-infrared-heating-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Modul pemanasan inframerah berzon&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi, proses “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar langkah termal semata-mata. Ia merupakan faktor penting yang mempengaruhi dimensi komponen semikonduktor. Perubahan suhu sebanyak 2°C pada permukaan wafer boleh mengubah dimensi komponen tersebut. Selain itu, kehadiran zarah-zarah di &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;kawasan&lt;/a&gt; panas juga boleh merosakkan komponen semikonduktor tersebut. Oleh itu, kami mencipta modul pemanasan inframerah yang memastikan suhu tetap stabil di kawasan yang penting, tanpa menimbulkan pencemaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Modul ini menggunakan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;pengeluarkan&lt;/a&gt; sinar inframerah berfrekuensi rendah, yang disusun dalam kawasan-kawasan yang dikawal secara berasingan, sesuai dengan geometri wafer. Di seluruh permukaan wafer, keseragaman suhu mencapai ±0.1°C, manakala ketepatan suhu pula adalah ±0.2°C antara setiap kumpulan wafer. Kawasan panas sentiasa kekal bersih; bahan seperti kuarsa dan alat reflektor digunakan untuk mengelakkan pelepasan gas berbahaya. Reka bentuk ini juga memastikan tiada pembentukan zarah &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;semasa&lt;/a&gt; operasi berjalan. Dalam bilik bersih kelas 1–100, modul ini dapat mengekalkan profil pemanasan yang stabil, tanpa peningkatan jumlah zarah. Ini seterusnya &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;meningkatkan&lt;/a&gt; kualiti proses penghasilan semikonduktor.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
