http://warm-ir-heater-ray.com/ms/tags/pembangun/ Recent content in Pembangun on Warm IR Heating Rays Hugo ms Wed, 24 Jun 2026 01:03:51 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/coater-developer-infrared-heater/ Wed, 24 Jun 2026 01:03:51 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/coater-developer-infrared-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-ray.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Pemanas inframerah untuk proses penghasilan lapisan pelindung"></p> <p>Di bilik litografi, mustahil untuk mengelakkan perubahan suhu yang berlaku secara tiba-tiba. Walaupun perbezaan suhu yang kecil sekalipun boleh menyebabkan ralat dimensi pada wafer tersebut. Proses pemanasan dan pengembangan bahan fotorezist tidak akan terhenti walaupun ketika ketuhar sedang menyesuaikan suhu – prosesnya akan terus berjalan. Jika pemanas tidak dapat mempertahankan suhu yang ditetapkan dengan konsisten, maka profil fotorezist akan berubah, dan ini akan menyebabkan masalah pada hasil pembuatan wafer.</p> <p><strong>Apa yang telah kami bina, dan mengapa ia penting</strong><br> Kami membina pemanas inframerah ini menggunakan lampu gelombang pendek dan reka bentuk termal berbasis kuarsa. Ini kerana masa tindak balas dan kawalan suhu merupakan faktor penting dalam proses ini. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan dengan konsisten dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Pemanas ini sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100, kerana reka bentuknya memastikan tiada zarah buruk yang dihasilkan – tiada pelepasan gas, tiada keretakan, dan tiada risiko pencemaran pada bahan fotorezist. Kebolehpercayaan pemanas ini bergantung pada masa operasinya yang berterusan; komponen-komponennya direka untuk beroperasi 24/7, dan sistem termalnya mampu mempertahankan suhu yang ditetapkan tanpa adanya perubahan suhu yang disebabkan oleh reka bentuk lama.</p>