http://warm-ir-heater-ray.com/ms/tags/sistem/ Recent content in Sistem on Warm IR Heating Rays Hugo ms Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/industrial-wafer-drying-system-heater/ Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/industrial-wafer-drying-system-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-ray.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Pemanas untuk sistem pengeringan wafer industri"></p> <p>Di bilik pengeringan tersebut, perubahan suhu sebanyak kurang dari 1°C sudah cukup untuk merosakkan keseluruhan kumpulan wafer yang diproses. Wafer yang keluar dari bilik pengeringan masih mengandungi sedikit kelembapan. Langkah seterusnya, seperti proses pembakaran atau pembersihan permukaan wafer, memerlukan suhu yang stabil. Oleh itu, sistem pemanas yang digunakan dalam sistem pengeringan wafer ini direka untuk berfungsi <a href="https://o-yate.net">dengan</a> baik dalam keadaan seperti ini, bukannya untuk menangani masalah yang timbul selepas proses pengeringan selesai.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam sistem ini</strong><br> Pemanas ini menggunakan unsur-unsur inframerah gelombang pendek yang dapat bertindak dengan cepat dan memberikan suhu yang stabil. Di kawasan yang aktif, keseragaman suhu wafer kekal pada tahap ±0.1°C, sehingga profil lapisan fotoresist tidak berubah dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain. Reka bentuk sistem ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih yang berada dalam kelas 1 hingga 100. Bahan-bahan yang digunakan juga tidak menghasilkan gas berbahaya, dan permukaannya tidak akan melepaskan zarah-zarah kecil. Dalam sistem yang teruji, unit ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan ketepatan suhu tetap terjaga walaupun setelah ribuan <a href="https://goldisgood.com">kitaran</a> pengeringan.</p>