<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Sokongan on Warm IR Heating Rays</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ray.com/ms/tags/sokongan/</link>
		<description>Recent content in Sokongan on Warm IR Heating Rays</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ray.com/ms/tags/sokongan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Sokongan teknikal untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/technical-support-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ray.com/ms/posts/technical-support-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Sokongan teknikal untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di kilang pembuatan cip, perubahan suhu sebanyak 0.5°C pada permukaan wafer sudah cukup untuk menyebabkan masalah pada proses pengeringan bahan fotoresist, sehingga mengakibatkan ketidakkonsistenan dalam ukuran garis-garis pada cip tersebut. Kami menciptakan platform pemanasan ini untuk memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses produksi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami memastikan suhu di seluruh permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan ketepatan pengaturan suhu juga berada dalam julat yang sama. Platform ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih bertaraf Class 1–100, dan ia beroperasi tanpa &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;menghasilkan&lt;/a&gt; zarah-zarah kotoran.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
