Coater ontwikkelaar infraroodverwarmer

Wed, 24 Jun 2026 01:03:51 +0800

Op de lithografieafdeling kun je je niet verschuilen voor temperatuursschommelingen. Zelfs een kleine afwijking in de temperatuur heeft invloed op de kwaliteit van de wafer. De apparaten voor het besmeren en ontwikkelen van de wafer stoppen niet zodat de oven zich kan aanpassen – ze blijven gewoon draaien. Als de heater de gewenste temperatuur niet met precisie kan behouden, verandert de structuur van de fotoresist, waardoor er meer defecten ontstaan.

Wat we hebben gebouwd, en waarom dat belangrijk is
We hebben deze infraroodheater ontworpen met behulp van kortegolflampen en een kwartsgebaseerd thermisch systeem. De reactietijd en het mogelijkheid om de temperatuur nauwkeurig te beheersen zijn hierbij cruciaal. De uniformiteit van de temperatuur op het oppervlak van de wafer blijft binnen ±0,1°C, zodat zowel het zachte als het harde bakproces consistent blijft. De heater kan worden gebruikt in schone ruimtes van klasse 1-100, omdat het apparaat is ontworpen om geen enkele vorm van vervuiling te veroorzaken – geen uitstoot van gassen, geen afbrokkeling, geen risico op contaminatie van de fotoresist. De betrouwbaarheid van het apparaat hangt af van de tijd dat het continu kan werken: de componenten zijn speciaal gekozen voor 24/7 gebruik. Het thermische systeem houdt de gewenste temperatuur constant, zonder de schommelingen die je tegenkomt bij oudere heethetssystemen.

Ontwikkelaar on Warm IR Heating Rays

Coater ontwikkelaar infraroodverwarmer