<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Technisch on Warm IR Heating Rays</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ray.com/nl/tags/technisch/</link>
		<description>Recent content in Technisch on Warm IR Heating Rays</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>nl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:30 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ray.com/nl/tags/technisch/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Technische ondersteuning voor het verwarmen van wafers</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ray.com/nl/posts/technical-support-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:30 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ray.com/nl/posts/technical-support-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Technische ondersteuning voor het verwarmen van wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Op de productielijn is het voldoende om een verschil van 0,5°C te hebben tussen verschillende delen van de wafer, zodat dit leidt tot afwijkingen in de dikte van de laag die wordt gebruikt in het fotolithografische proces. We hebben deze verhittingsplaat ontworpen om de thermische omstandigheden binnen de gewenste grenzen te houden, shift na shift.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Wat belangrijk is onder de motorkap&lt;/strong&gt;&#xA;We behouden een constante temperatuur van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer. De herhalbaarheid van de ingestelde temperatuur blijft ook binnen deze marge. De plaat is geschikt voor &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;gebruik&lt;/a&gt; in een schone werkomgeving (klasse 1–100) en produceert geen vervuilende deeltjes.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
