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		<title>Apoio on Warm IR Heating Rays</title>
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		<description>Recent content in Apoio on Warm IR Heating Rays</description>
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				<title>Suporte técnico para aquecimento de wafers</title>
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				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 02:18:30 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Suporte técnico para aquecimento de wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de produção, uma variação de 0,5°C na temperatura do wafer já é suficiente para causar desvios na espessura da camada fotoreacional, resultando em produtos defeituosos. Construímos essa plataforma de aquecimento para manter o comportamento térmico dentro dos limites aceitáveis, de turno em turno.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que é importante aqui&lt;/strong&gt;&#xA;Conseguimos manter uma uniformidade térmica de ±0,1°C em todo o wafer. A repetibilidade do ponto de controle também fica dentro dessa mesma faixa de tolerância. A plataforma foi projetada para funcionar em ambientes de sala limpa – classe 1–100 – e não gera partículas indesejadas durante seu funcionamento.&lt;/p&gt;</description>
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