Wafers on Warm IR Heating Rays

Aquecedor para sistema de secagem de wafers industriais

Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800

Na linha de produção, uma variação de temperatura inferior a 1°C na câmara de secagem já é suficiente para tornar todo um lote inválido. As bolachas saem da câmara limpa ainda com um pouco de umidade residual, e as etapas seguintes – como o cozimento suave ou duro, ou a remoção de partículas nas bordas das bolachas – não permitem nenhuma variação térmica. Nós projetamos nosso sistema de aquecimento para lidar com essa realidade, em vez de tentar corrigi-la posteriormente.

Aquecedor de tipo CSP em nível de wafer (Chip Scale Package)

Mon, 22 Jun 2026 19:08:34 +0800

Na área de litografia, um wafer de 300 mm não tem tempo suficiente para que o forno consiga aquecê-lo adequadamente. As variações no processo de aquecimento causam mudanças na espessura das linhas do wafer. Além disso, o ressecamento lento deixa marcas de água, o que afeta negativamente a qualidade do produto final. Criamos nosso aquecedor de infravermelho de nível de wafer justamente para esses casos: um aquecimento rápido e controlado, exatamente onde o processo precisa dele.

Suporte técnico para aquecimento de wafers

Fri, 19 Jun 2026 02:18:30 +0800

Na linha de produção, uma variação de 0,5°C na temperatura do wafer já é suficiente para causar desvios na espessura da camada fotoreacional, resultando em produtos defeituosos. Construímos essa plataforma de aquecimento para manter o comportamento térmico dentro dos limites aceitáveis, de turno em turno.

O que é importante aqui Conseguimos manter uma uniformidade térmica de ±0,1°C em todo o wafer. A repetibilidade do ponto de controle também fica dentro dessa mesma faixa de tolerância. A plataforma foi projetada para funcionar em ambientes de sala limpa – classe 1–100 – e não gera partículas indesejadas durante seu funcionamento.

Infravermelho vs Convecção para secagem de wafers

Thu, 18 Jun 2026 01:10:06 +0800

Na linha de 300 mm, o tempo de parada não planejado e as partículas são os principais problemas. Os fornos de convecção têm sido usados para secar e assar peças há anos, mas seu processo é lento, além de causar desvios na temperatura. Além disso, a circulação do ar pode criar partículas que afetam a qualidade dos produtos finais. Quando o tempo de processamento é medido em segundos e graus, a tecnologia infravermelha oferece um perfil térmico diferente: rápido, direto e preciso.