http://warm-ir-heater-ray.com/th/tags/%E0%B8%8A%E0%B8%B4%E0%B8%9B/ Recent content in ชิป on Warm IR Heating Rays Hugo th Mon, 22 Jun 2026 19:08:35 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/th/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/ Mon, 22 Jun 2026 19:08:35 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/th/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/ <p><img src="http://warm-ir-heater-ray.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png" alt="เครื่องทำความร้อนแบบ Wafer Level CSP (Chip Scale Package)"></p> <p>ในกระบวนการผลิตวัตถุดิบรูปแบบ 300 มม. นั้น ไม่มีเวลาเพียงพอให้อุโมงค์อบความร้อนทำงานได้ทัน ความผันผวนจากการอบความร้อนจะส่งผลให้ความกว้างของเส้นเปลี่ยนแปลงไป ส่วนความผันผวนจากการอบความร้อนที่รุนแรงก็จะส่งผลให้เกิดคราบสกปรกบนวัตถุดิบ และการอบความร้อนที่ช้าเกินไปก็จะทำให้เกิดรอยน้ำบนวัตถุดิบ ซึ่งส่งผลเสียต่อประสิทธิภาพการผลิต เราจึงออกแบบเครื่องอบความร้อนแบบอินฟราเรดสำหรับวัตถุดิบในระดับเดียวกัน เพื่อให้สามารถอบความร้อนได้อย่างรวดเร็วและมีความแม่นยำตรงจุดที่ต้องการ</p> <p><strong>สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค</strong><br> เราใช้แสงอินฟราเรดความยาวคลื่นสั้นที่มีการตอบสนองที่รวดเร็ว และมีการควบคุมสเปกตรัมได้อย่างแม่นยำ ทำให้พลังงานถูกส่งไปยังวัสดุที่ใช้ในการผลิตเท่านั้น ไม่ใช่ไปยังส่วนอื่นๆ ของเครื่องจักร ในบริเวณที่มีการประมวลผล จะมีความสม่ำเสมอของอุณหภูมิอยู่ที่ ±0.1°C และสามารถควบคุมรูปแบบการอบความร้อนได้อย่างแม่นยำในแต่ละครั้งที่มีการผลิต</p> <p>เครื่องนี้ถูกออกแบบมาสำหรับการใช้งานในห้องปลอดฝุ่นระดับ Class 1–100 โดยใช้วัสดุที่มีการปล่อยก๊าซน้อย มีหน้าต่างที่ทำจากควอตซ์ และมีระบบการไหลของอากาศที่ช่วยป้องกันไม่ให้มีฝุ่นเข้ามาในบริเวณที่มีการอบความร้อน มีการตรวจสอบความสะอาดของเครื่องในระหว่างการทดสอบ เพื่อให้มั่นใจว่าไม่มีฝุ่นเกิดขึ้นเลย ระบบนี้สามารถทำงานได้ 24/7 โดยมีช่วงเวลาสำหรับการบำรุงรักษาที่สามารถวางแผนได้ล่วงหน้า ไม่มีปัญหาด้านเวลาการหยุดทำงานอย่างไม่คาดคิด</p> <p><strong>เหตุผลที่เหมาะสมสำหรับการใช้งาน</strong><br> สำหรับการอบความร้อนวัตถุดิบ ระบบอินฟราเรดช่วยขจัดน้ำบนพื้นผิวได้โดยไม่ก่อให้เกิดความเสียหายทางความร้อน ทำให้เวลาการอบความร้อนลดลง และมีความผิดพลาดน้อยลง ในกระบวนการประมวลผลวัสดุ ระบบนี้ช่วยควบคุมการอบความร้อนได้อย่างแม่นยำ ทำให้ค่า CD และรูปร่างของพื้นผิวมีความสม่ำเสมอ</p> <p>สำหรับระบบ CSP ในระดับวัตถุดิบ เครื่องอบความร้อนนี้ช่วยให้การอบความร้อนมีความสม่ำเสมอ และช่วยควบคุมความเสียหายทางความร้อนได้ดี ทำให้มีประสิทธิภาพการผลิตที่ดีขึ้น มีการกระจายความร้อนที่ดีขึ้น และมีของเสียน้อยลง โดยไม่จำเป็นต้องปรับตั้งค่าอุณหภูมิของเตาอบให้ตรงกับความเป็นจริงอยู่เสมอ</p> <p><strong>สิ่งที่ควรวางแผนไว้</strong><br> เครื่องอบความร้อนนี้ต้องการแหล่งจ่ายไฟที่สะอาดและแห้ง และต้องมีพื้นผิวที่มั่นคงเพื่อให้สามารถควบคุมความสม่ำเสมอของอุณหภูมิได้ ระบบนี้สามารถใช้งานร่วมกับอุปกรณ์ FOUP และอินเตอร์เฟซ SEMI ได้ แต่การติดตั้งต้องคำนึงถึงความแตกต่างของค่าการแผ่รังสีของวัสดุต่างๆ เรามีเมทริกซ์สำหรับการปรับค่าต่างๆ ให้เหมาะสมกับแต่ละกระบวนการผลิต</p> <p>ควรมีการตรวจสอบเครื่องอบความร้อนเป็นประจำ ความแม่นยำไม่ได้เกิดขึ้นโดยบังเอิญ แต่ต้องมีการดูแลรักษาอย่างสม่ำเสมอ</p> <iframe width="560" height="315" src="https://www.youtube.com/embed/J8jK5-ibr6o?feature=oembed" title="เครื่องทำความร้อนแบบ Wafer Level CSP (Chip Scale Package)" frameborder="0" allow="accelerometer; [autoplay](https://o-yate.com); clipboard-write; encrypted-media; gyroscope; picture-in-picture; web-share" referrerpolicy="strict-origin-when-cross-origin" allowfullscreen></iframe>