<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Thang Đo on Warm IR Heating Rays</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ray.com/vi/tags/thang-%C4%91o/</link>
		<description>Recent content in Thang Đo on Warm IR Heating Rays</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 19:08:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ray.com/vi/tags/thang-%C4%91o/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bộ sưởi ở cấp độ wafer của kiểu đóng gói Chip Scale Package</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ray.com/vi/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 19:08:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ray.com/vi/posts/wafer-level-csp-chip-scale-package-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ray.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Bộ sưởi ở cấp độ wafer của kiểu đóng gói Chip Scale Package&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình in ấn trên wafer, wafer có kích thước 300 mm không có đủ thời gian để lò nung hoạt động hiệu quả. Hiện tượng nhiệt độ không ổn định dẫn đến sự thay đổi độ rộng của các đường nét trên wafer. Sự biến thiên về nhiệt độ cũng gây ra những khuyết tật trên bề mặt wafer. Còn việc sấy khô chậm thì lại để lại những vết nước trên bề mặt wafer, ảnh hưởng đến chất lượng sản phẩm. Chúng tôi chế tạo bộ sưởi hồng ngoại ở cấp độ wafer để giải quyết những vấn đề này – mang lại nhiệt độ ổn định và &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;nhanh&lt;/a&gt; chóng ngay tại vị trí cần thiết trong quy trình sản xuất.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
