Wafer on Warm IR Heating Rays

Cảm biến hồng ngoại chính xác dành cho wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:49:23 +0800

Đừng để một chiếc bóng đèn hỏng phá hủy toàn bộ sản phẩm của bạn.
Trong những nhà máy sản xuất với khối lượng công việc lớn, việc một chiếc bóng đèn bị hỏng không chỉ gây phiền toái mà còn là một thảm họa. Khi lớp vỏ bằng thạch anh bị vỡ, bạn không chỉ mất đi nguồn nhiệt cần thiết để sản xuất, mà còn phải đối mặt với tình trạng các mảnh thủy tinh và khí halogen rơi xuống các tấm wafer. Chỉ cần một lần bóng đèn bị hỏng, toàn bộ sản phẩm sẽ trở thành rác thải. Đó quả là một tổn thất lớn.

Cảm biến nhiệt độ dùng cho thiết bị xử lý wafer

Mon, 27 Jul 2026 16:42:24 +0800

Tại sao chúng ta chuyển sang sử dụng phương pháp sấy khô bằng tia hồng ngoại cho các linh kiện bán dẫn không chứa chì

Việc thiết kế các thiết bị xử lý wafer ngày nay khá phức tạp. Với những quy định mới về việc loại bỏ chì và ưu tiên các giải pháp thân thiện với môi trường, các công đoạn sấy khô và làm khô wafer trở nên rất quan trọng. Hầu hết mọi người vẫn sử dụng những lò sấy cũ, nhưng thực chất chúng chỉ là những chiếc lò sưởi khổng lồ dùng để làm nóng toàn bộ căn phòng. Điều này gây lãng phí năng lượng, và thậm chí có thể gây ô nhiễm cho bề mặt wafer.

Bộ phản quang dành cho đèn sấy wafer

Wed, 15 Jul 2026 13:44:28 +0800

Ngăn chặn những mảnh vỡ: Tại sao thiết kế bộ phản xạ lại quan trọng đến vậy?
Trong quá trình xử lý các tấm wafer ở công suất cao, việc bóng đèn bị hỏng không chỉ gây ra những phiền toái mà còn dẫn đến việc ngừng sản xuất một cách bất ngờ. Đó thực sự là một cơn ác mộng.

Khi ống thủy tinh bị nổ, những mảnh thủy tinh và chất khoáng từ bóng đèn sẽ rơi trực tiếp xuống các tấm silicon. Chỉ cần một lần nổ như vậy thôi cũng đủ để phá hủy cả một lô sản phẩm. Đó là lý do tại sao chúng ta coi bộ phản xạ không chỉ là một tấm gương thông thường, mà còn là một “lớp bảo vệ”.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Mon, 13 Jul 2026 17:10:35 +0800

Hãy cùng bàn về phương pháp sấy khô wafer bằng tia hồng ngoại nhé. Chúng ta đã từ bỏ những lò nung kiểu truyền thống và chuyển sang sử dụng phương pháp sấy khô bằng tia hồng ngoại. Tại sao vậy? Bởi vì các tiêu chuẩn “xanh” và “không chứa chì” trong các nhà máy sản xuất hiện đại không còn chỉ là những khuyến nghị nữa – chúng đã trở thành quy định bắt buộc.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Thu, 09 Jul 2026 14:53:33 +0800

Giới thiệu
Hãy cùng tìm hiểu điều gì sẽ xảy ra khi dây chuyền sấy các wafer MEMS hoạt động ở mức tối đa. Nhiệt độ được nâng lên cao, và hệ thống phải hoạt động ở giới hạn tối đa của nó.

Đây là tình huống tồi tệ nhất có thể xảy ra: bóng đèn hồng ngoại bị nổ. Không chỉ hỏng, mà còn vỡ thành từng mảnh, gây ra nhiều mảnh vụn rơi xuống các wafer. Đó quả là một tình huống gây thiệt hại lớn.

Hệ thống sấy wafer dùng trong ngành công nghiệp – Bộ gia nhiệt

Thu, 02 Jul 2026 03:16:43 +0800

Trong khu vực sấy wafer, một sự thay đổi nhiệt độ dù chỉ 1°C cũng đủ để làm hỏng toàn bộ lô sản phẩm. Các tấm wafer sau khi được lấy ra từ buồng sạch vẫn còn chứa một lượng hơi ẩm nhất định. Những bước xử lý tiếp theo – như sấy ấm, sấy nóng, hoặc loại bỏ các hạt trên bề mặt wafer – đều yêu cầu môi trường có nhiệt độ ổn định. Vì vậy, chúng tôi thiết kế hệ thống sấy wafer sao cho có thể đối phó với điều kiện này, thay vì cố gắng khắc phục hậu quả sau khi mọi chuyện đã xảy ra.

Bộ sưởi ở cấp độ wafer của kiểu đóng gói Chip Scale Package

Mon, 22 Jun 2026 19:08:35 +0800

Trong quy trình in ấn trên wafer, wafer có kích thước 300 mm không có đủ thời gian để lò nung hoạt động hiệu quả. Hiện tượng nhiệt độ không ổn định dẫn đến sự thay đổi độ rộng của các đường nét trên wafer. Sự biến thiên về nhiệt độ cũng gây ra những khuyết tật trên bề mặt wafer. Còn việc sấy khô chậm thì lại để lại những vết nước trên bề mặt wafer, ảnh hưởng đến chất lượng sản phẩm. Chúng tôi chế tạo bộ sưởi hồng ngoại ở cấp độ wafer để giải quyết những vấn đề này – mang lại nhiệt độ ổn định và nhanh chóng ngay tại vị trí cần thiết trong quy trình sản xuất.

Hỗ trợ kỹ thuật liên quan đến việc làm nóng wafer

Fri, 19 Jun 2026 02:18:31 +0800

Trong quy trình sản xuất, chỉ cần sự chênh lệch nhiệt độ 0,5°C trên bề mặt wafer thôi cũng đủ để gây ra những sai lệch về kích thước các đường nét trên wafer, dẫn đến việc phải loại bỏ wafer đó đi. Chúng tôi thiết kế nền tảng gia nhiệt này nhằm duy trì nhiệt độ ổn định trong suốt quá trình sản xuất.

Điều quan trọng nhất là gì? Chúng tôi đảm bảo rằng nhiệt độ trên bề mặt wafer luôn ở mức ±0,1°C, và độ ổn định của nhiệt độ này cũng nằm trong khoảng cho phép. Nền tảng gia nhiệt này được thiết kế dành cho môi trường phòng sạch loại 1–100; nó hoạt động mà không tạo ra bất kỳ hạt bụi nào.

Sử dụng tia hồng ngoại hay phương pháp đối lưu để sấy wafer

Thu, 18 Jun 2026 01:10:07 +0800

Trên dây chuyền sản xuất có kích thước 300mm, những yếu tố gây gián đoạn quá trình sản xuất và sự xuất hiện của các hạt bụi chính là những “kẻ thù” cần được loại bỏ. Trong nhiều năm qua, các lò sấy kiểu đối lưu vẫn được sử dụng để thực hiện công việc sấy khô và nung vật liệu. Tuy nhiên, tốc độ hoạt động của chúng khá chậm, và luồng khí có thể tạo ra các hạt bụi, khiến chất lượng sản phẩm không đạt tiêu chuẩn. Khi thời gian xử lý được tính bằng giây và độ, thì công nghệ hồng ngoại mang lại hiệu suất cao hơn: nhanh chóng, chính xác và sạch sẽ.