http://warm-ir-heater-ray.com/zh/tags/%E6%94%AF%E6%8C%81/ Recent content in 支持 on Warm IR Heating Rays Hugo zh Fri, 19 Jun 2026 02:18:31 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/zh/posts/technical-support-for-wafer-heating/ Fri, 19 Jun 2026 02:18:31 +0800 http://warm-ir-heater-ray.com/zh/posts/technical-support-for-wafer-heating/ <p><img src="http://warm-ir-heater-ray.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="晶圆加热的技术支持"></p> <p>在晶圆制造过程中，只要晶圆表面的温度出现0.5°C的波动，就足以导致光刻胶的烘烤效果不佳，进而造成成品率下降。我们设计的这个加热平台，就是为了确保每批晶圆在处理过程中的温度始终处于理想范围内。</p>