در خط تولید، تغییر دمای ۰.۵ درجه سانتیگراد در سطح ویفر، کافی است تا باعث اختلالاتی در فرآیند پختن فوتورزیست شده و منجر به تولید محصولات نامرغوب شود. ما این پلتفرم گرمایشی را طوری طراحی کردهایم که رفتار حرارتی در طول فرآیند، در محدوده مشخصی باقی بماند.
چه چیزی اهمیت دارد؟
ما تنوع دمایی در سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ میکنیم؛ همچنین، قابلیت تکرارپذیری دما نیز در همین محدوده باقی میماند. این پلتفرم برای استفاده در اتاقهای پاک ساخته شده است؛ همچنین، عملکرد آن بدون ایجاد ذرات ناخواسته صورت میگیرد.
استفاده از امواج مادون قرمز کوتاه و متوسط، همراه با بخشهای گرمایشی جدا شده با کوارتز، باعث پاسخ حرارتی سریع و بدون تماس میشود. شما میتوانید دمای لازم را کنترل کنید، بدون اینکه سطح ویفر آسیب ببیند. الگوهای پختن مختلف، باعث پایداری عملکرد فرآیند میشوند؛ همچنین، سیستم به سرعت پایدار میشود و زمان گرم شدن و مصرف انرژی کاهش مییابد.
چرا این پلتفرم در فرآیند لیتوگرافی مفید است؟
در فرآیند لیتوگرافی، این دقت باعث کاهش تعداد محصولات نامرغوب، کاهش تراکم نقصها، و کنترل دقیق اندازه ویفر میشود. کنترل دقیق دما، عملکرد فوتورزیست را بهبود بخشیده و تغییرات در کنارههای ویفر را کاهش میدهد؛ لازم نیست تغییراتی در فرآیندهای شیمیایی اعمال شود.
مصرف انرژی نیز کاهش مییابد؛ زیرا پلتفرم به سرعت به دمای مورد نظر میرسد و آن را حفظ میکند. این پلتفرم برای کار ۲۴ ساعته طراحی شده است؛ همچنین، توقفهای غیرمنتظره نیز کم است. نتیجه این امر، بهرهوری بالاتر، کاهش محصولات نامرغوب، و کاهش هزینه هر ویفر است.
چه چیزهایی را باید از قبل در نظر بگیریم؟
این پلتفرم به منبع تغذیه مخصوص و هوای تمیز و خشک نیاز دارد تا پایداری حرارتی و استانداردهای اتاقهای پاک برقرار بماند. محدودیتهای نصب نیز بسیار دقیق هستند؛ بنابراین باید فضای مناسبی برای نصب آن در نظر گرفته شود.
انتظار داشته باشید که زمان راهاندازی پلتفرم کوتاه باشد؛ تا بتوانید الگوهای پختن مناسب را برای فوتورزیست خود تنظیم کنید. پس از تنظیم، فرآیند به طور پایدار ادامه خواهد داشت.