Di area litografi, wafer berukuran 300 mm tidak memiliki waktu yang cukup agar oven dapat memanaskan wafer tersebut dengan sempurna. Proses pemanasan yang tidak tepat akan menyebabkan perubahan lebar garis pada permukaan wafer. Variasi suhu selama proses pemanasan juga dapat menyebabkan munculnya kotoran di permukaan wafer. Sedangkan proses pengeringan yang lambat akan meninggalkan jejak air yang merusak kualitas wafer. Kami menciptakan pemanas inframerah tingkat wafer ini untuk mengatasi masalah-masalah tersebut—dengan pemanasan yang cepat dan terkontrol, tepat di tempat yang dibutuhkan dalam proses produksi.
Apa yang penting secara teknis? Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah dengan respons yang cepat dan kontrol spektral yang ketat, sehingga energi panas hanya sampai ke fotoresist dan wafer saja, bukan ke bagian-bagian lainnya. Di seluruh area aktif wafer, tingkat keseragaman suhu mencapai ±0,1°C, dan profil pemanasan yang digunakan tetap konsisten dari satu siklus ke siklus berikutnya.
Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan memiliki emisi gas yang rendah, jendela kaca kuarsa yang tertutup rapat, serta aliran udara yang tidak memungkinkan partikel masuk ke dalam area pemanasan. Tidak ada partikel yang dihasilkan selama proses pengoperasian, sebab hal ini telah diverifikasi melalui pemantauan langsung selama proses uji coba. Sistem ini dapat beroperasi 24/7, dengan jadwal perawatan yang dapat direncanakan terlebih dahulu—tanpa adanya gangguan operasional yang tak terduga.
Mengapa sistem ini cocok untuk proses produksi? Untuk proses pengeringan wafer, pemanas inframerah ini mampu menghilangkan air di permukaan wafer tanpa menyebabkan gangguan termal, sehingga waktu proses menjadi lebih singkat dan kualitas wafer tetap baik. Dalam proses pengolahan fotoresist, kontrol yang sama membantu menjaga stabilitas karakteristik permukaan wafer. Pada sistem CSP tingkat wafer, pemanas ini membantu proses pengerasan dan pengemasan wafer secara efektif, sehingga suhu dan deformasi wafer tetap terkendali. Dengan demikian, laju produksi menjadi lebih cepat, distribusi panas lebih merata, dan limbah yang dihasilkan semakin sedikit—tanpa perlu membuang-buang waktu untuk menyesuaikan pengaturan oven yang seringkali tidak sesuai dengan kondisi aktual.
Apa yang perlu diperhatikan? Pemanas ini membutuhkan pasokan listrik yang bersih dan kering, serta permukaan penyangga yang stabil agar kesejajaran dan keseragaman wafer tetap terjaga. Sistem ini kompatibel dengan alat-alat pengolahan wafer standar dan antarmuka SEMI. Namun, integrasinya perlu memperhatikan perbedaan emisivitas antara berbagai jenis film dan substrat. Kami menyediakan matriks kalibrasi sesuai resep yang digunakan.
Perlu dilakukan inspeksi berkala terhadap sistem ini, termasuk pemeriksaan kinerja termalnya. Keprecisan tidak terjadi secara kebetulan—hal tersebut perlu dipertahankan secara rutin.