Di area litografi, proses pemanasan jenis “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar langkah termal biasa. Proses ini sebenarnya merupakan langkah-langkah penting untuk mengontrol dimensi komponen-komponen yang ada di permukaan wafer. Perubahan suhu sebesar 2°C saja sudah dapat mempengaruhi dimensi-dimensi kritis tersebut. Selain itu, partikel-partikel yang terbentuk di zona panas dapat merusak banyak komponen. Oleh karena itu, kami menciptakan modul pemanas inframerah yang mampu mengendalikan suhu di area yang penting, tanpa menimbulkan kontaminasi.
Modul ini menggunakan pemancar inframerah berpanjang gelombang pendek, yang disusun dalam zona-zona yang dikendalikan secara independen, sesuai dengan geometri wafer. Di seluruh permukaan wafer, tingkat keseragaman suhu mencapai ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitas suhu antar batch adalah ±0,2°C. Zona panas tetap bersih, karena digunakan bahan kuarsa dan reflektor yang minim mengeluarkan gas. Desainnya juga mencegah munculnya partikel selama proses berlangsung. Di ruang bersih kelas 1–100, modul ini mampu menjaga profil pemanasan yang stabil, tanpa peningkatan jumlah partikel. Hal ini juga membantu mengurangi variasi ketebalan lapisan fotoresist, sehingga mengurangi kebutuhan untuk melakukan perbaikan ulang.
Dengan pendekatan ini, kita mendapatkan fleksibilitas yang lebih besar dalam proses produksi. Repeatabilitas proses “soft bake” meningkatkan kualitas hasil produksi, sedangkan konsistensi proses “hard bake” meningkatkan daya rekat dan selektivitas pengikisan, sehingga mengurangi limbah dan kebutuhan untuk melakukan perbaikan ulang. Pendekatan zonasi ini juga membantu mengurangi konsumsi energi, karena tidak diperlukan pemanasan seluruh ruangan secara maksimal. Arsitektur modularnya memungkinkan penggantian modul secara cepat saat dilakukan pemeliharaan preventif, sehingga menghindari waktu henti yang tidak diinginkan.
Proses pemasangannya cukup sederhana, yaitu dengan menyelaraskan modul tersebut dengan jalur pengiriman wafer, lalu membersihkan area tersebut agar zona panas tetap terisolasi. Modul ini cocok untuk digunakan pada peralatan semikonduktor standar. Namun, pastikan kabel dan sistem kontrolnya sudah sesuai dengan spesifikasi MES dan prosedur pemeliharaan yang digunakan.