Riscaldatore per sistema di essiccazione dei wafer industriali
Nelle linee di produzione, anche una variazione di temperatura inferiore a 1°C nella camera di essiccazione può essere sufficiente per rendere interi...
Riscaldatore a livello di wafer CSP (Chip Scale Package)
Nel processo di litografia, un wafer di 300 mm non ha il tempo necessario affinché il forno riesca a raggiungere la temperatura desiderata. Le...
Infrarossi contro convettione per l essiccazione dei wafer
Nella linea di produzione da 300 mm, i tempi di fermo non pianificati e la presenza di particelle rappresentano dei problemi significativi. Da anni...
Riscaldatore a wafer di silicio fotovoltaico
Sul piano produttivo, sapete come funziona: una deriva di 0,5°C nella cottura del fotoresist e le dimensioni critiche risultano fuori tolleranza—di...