Di kilang pembuatan cip, perubahan suhu sebanyak 0.5°C pada permukaan wafer sudah cukup untuk menyebabkan masalah pada proses pengeringan bahan fotoresist, sehingga mengakibatkan ketidakkonsistenan dalam ukuran garis-garis pada cip tersebut. Kami menciptakan platform pemanasan ini untuk memastikan suhu tetap stabil sepanjang proses produksi.
Apa yang penting dalam sistem ini
Kami memastikan suhu di seluruh permukaan wafer kekal pada tahap ±0.1°C, dan ketepatan pengaturan suhu juga berada dalam julat yang sama. Platform ini direka khusus untuk digunakan dalam bilik bersih bertaraf Class 1–100, dan ia beroperasi tanpa menghasilkan zarah-zarah kotoran.
Gelombang inframerah jarak pendek dan sederhana, bersama-sama dengan zon pemanasan yang terisolasi menggunakan kuarsa, membolehkan proses pemanasan yang cepat dan tanpa sentuhan fisik. Anda boleh mengawal suhu dengan tepat, tanpa merosakkan permukaan wafer. Proses pemanasan yang efektif memastikan konsistensi hasil produksi dari satu sesi ke sesi yang lain, serta mempercepat proses penstabilan suhu, sekaligus mengurangkan masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer serta penggunaan tenaga yang tidak perlu.
Mengapa sistem ini sesuai untuk proses litografi
Dalam proses litografi, ketepatan suhu yang tinggi membantu mengurangkan jumlah kerja ulang yang diperlukan, mengurangkan kecacatan pada cip, serta memastikan konsistensi ukuran cip. Pengawalan suhu yang baik juga meningkatkan prestasi bahan fotoresist dan mengurangi variasi pada tepi-tepi cip—tanpa perlu membuat penyesuaian kimia.
Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana platform ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat dan mempertahankannya tanpa melebihi batas yang ditentukan. Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa gangguan yang tidak dijangka. Hasilnya adalah kelajuan pengeluaran yang lebih tinggi, pengurangan bahan buangan, serta kos yang lebih rendah untuk setiap wafer yang dihasilkan.
Apa yang perlu disiapkan terlebih dahulu
Platform ini memerlukan sumber tenaga yang khusus serta aliran udara yang bersih dan kering agar suhu tetap stabil dan memenuhi standard bilik bersih. Syarat-syarat pemasangan sangat ketat—pastikan ruang yang diperlukan untuk pemasangan sesuai dengan antaramuka yang ditentukan.
Proses penyetelan awal memerlukan waktu yang singkat agar profil pemanasan dapat disesuaikan dengan betul untuk bahan fotoresist yang digunakan. Setelah disetel, proses produksi akan berjalan secara stabil.