در فرآیند لیتوگرافی، نمیتوان از تغییرات دما جلوگیری کرد. حتی کوچکترین اختلاف در دما، منجر به ایجاد خطاهای اندازهگیری در سطح ویفر میشود. خطوط لازم برای پوشاندن و توسعه ویفر، متوقف نمیشوند؛ بلکه به کار خود ادامه میدهند. اگر هیتر نتواند دمای مورد نظر را به طور پایدار حفظ کند، الگوی فوتورزیست تغییر کرده و این امر منجر به افزایش نقصها میشود.
آنچه ما ساختیم و چرا این موضوع مهم است
ما این هیتر مادون قرمز را بر اساس لامپهای موج کوتاه و ساختار حرارتی مبتنی بر کوارتز طراحی کردیم؛ زیرا زمان پاسخگویی و کنترل دما، عوامل کلیدی در این فرآیند هستند. یکنواختی دما در سطح ویفر، در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی میماند؛ بنابراین فرآیندهای پخت نرم و سخت، در هر بار تولید، یکنواخت باقی میمانند. این هیتر در اتاقهای تمیز درجه ۱ تا ۱۰۰ کار میکند؛ زیرا ساختار آن به گونهای است که هیچ ذرهای تولید نشود؛ هیچ گونه آلودگی یا تغییر دما وجود ندارد. قابلیت اطمینان این هیتر، به میزان زمان کاری آن بستگی دارد؛ قطعات مورد استفاده برای کار ۲۴/۷ انتخاب شدهاند، و سیستم حرارتی نیز دمای مورد نظر را بدون تغییر حفظ میکند.
در ابزارهای پوشاندن و توسعه ویفر، ماژول پخت، نقش کلیدی در تعیین سرعت و بازدهی فرآیند دارد. هیتر مادون قرمز ما، دمای ویفر را به سرعت افزایش میدهد و سپس آن را در همان دما نگه میدارد؛ این کار باعث کاهش زمان فرآیند و کاهش فشار حرارتی بر روی ویفر میشود. این امر منجر به کاهش نوسانات در یکنواختی دما، الگوهای بهتری برای فوتورزیست، و کنترل بهتر عرض خطوط میشود. همچنین، مصرف انرژی در حین گرم شدن و حالت پایدار، کمتر است؛ همچنین نیاز به تعمیرات کمتری وجود دارد، زیرا سطح تماسی برای فرسودگی وجود ندارد.
چند نکته عملی قبل از استفاده
این هیتر میتواند در پلتفرمهای استاندارد ابزارهای پوشاندن و توسعه ویفر استفاده شود؛ اما باید مطمئن شوید که مشخصات فیزیکی و محدودیتهای نصب، با مدل دقیق ابزار و ساختار اتاق پخت همخوانی داشته باشد. پس از اطمینان از همخوانی، ادغام آن در سیستم بسیار آسان خواهد بود؛ در غیر این صورت، نوسانات در یکنواختی دما ایجاد خواهد شد. بهتر است این کار را در زمانهای مناسب انجام دهید، و مطمئن شوید که جریان هوا در اتاق تمیز، باعث ایجاد نقاط گرم یا سرد در اطراف لامپ نشود.