리소그래피 공정에서는 300mm 웨이퍼의 경우 오븐이 반응할 시간이 충분하지 않습니다. 부드러운 건조 과정에서는 선의 폭에 변화가 생기고, 강한 건조 과정에서는 불순물이 발생합니다. 그리고 건조 속도가 느리면 물자가 남아 있어 수율에 영향을 미칩니다. 우리는 바로 이러한 상황들을 해결하기 위해 웨이퍼 단위의 적외선 히터를 개발했습니다. 즉, 공정이 필요로 하는 곳에 신속하고 정확하게 열을 공급할 수 있습니다.
기술적으로 중요한 점은 무엇인가요? 우리는 빠른 반응 속도와 정밀한 스펙트럼 제어가 가능한 단파 적외선을 사용합니다. 그래서 에너지가 고정식 장비가 아닌 포토레지스트와 웨이퍼에 집중됩니다. 활성 영역 전체에서는 ±0.1°C 이내의 균일성을 유지할 수 있으며, 반복된 공정에서도 일관된 성능이 보장됩니다.
이 시스템은 클린룸 등급 1~100에 맞게 설계되었습니다. 방출량이 적은 재료와 밀폐된 석영 창문, 그리고 입자가 열 처리 과정에 들어가지 않도록 하는 공기 흐름 구조가 특징입니다. 자격 검증 과정에서 실시간 모니터링을 통해 입자 생성이 없음을 확인할 수 있습니다. 이 시스템은 24/7 작동할 수 있으며, 유지보수 시간도 미리 계획할 수 있어 예상치 못한 가동 중단이 발생하지 않습니다.
왜 이 시스템이 적합한가요? 웨이퍼 건조 과정에서 적외선 히터는 열 충격 없이 표면의 물을 제거해 주므로, 공정 시간이 단축되고 불순물도 줄어듭니다. 포토레지스트 처리 과정에서도 동일한 제어 기능을 통해 부드러운 건조와 강한 건조 과정을 안정적으로 유지할 수 있어, 전체 웨이퍼의 CD와 측면 프로파일이 안정적으로 유지됩니다.
웨이퍼 단위의 CSP 공정에서는 히터가 안정적인 경화와 밀봉을 가능하게 하여, 열 관리와 왜곡을 최소화합니다. 그 결과, 처리 속도가 빨라지고 분포가 더욱 정확해지며, 폐기물도 줄어듭니다. 또한, 오븐의 설정값을 계속 조절할 필요도 없습니다.
준비해야 할 사항은 무엇인가요? 히터는 깨끗하고 건조한 전력 공급과 안정적인 장착面이 필요합니다. 이를 통해 정렬과 균일성을 유지할 수 있습니다. 이 시스템은 표준적인 FOUP 처리 방식 및 SEMI 인터페이스와 호환됩니다. 하지만 다양한 필름과 기판의 발열 특성을 고려하여 설계해야 합니다. 우리는 각 공정에 맞는 보정 매트릭스를 제공합니다.
정기적인 점검과 열 상태 확인도 필요합니다. 정밀도는 우연히 얻어지는 것이 아니라, 지속적인 관리를 통해 유지됩니다.