Di lantai proses litografi, cakera berukuran 300 mm tidak mempunyai masa yang cukup untuk pemanas untuk berfungsi dengan efektif. Perubahan suhu semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan ketebalan garisan pada permukaan cakera. Variasi suhu yang tinggi pula boleh menyebabkan masalah lain. Kelajuan pengeringan yang perlahan pula akan meninggalkan kesan air pada permukaan cakera, sehingga menjejaskan kualiti produk akhir. Kami mencipta pemanas inframerah pada tahap cakera ini untuk menangani masalah-masalah ini—dengan haba yang cepat dan terkawal di tempat yang diperlukan semasa proses pengeluaran.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan sinar inframerah berfrekuensi rendah yang memberikan respons yang cepat serta kawalan spektral yang tepat. Dengan cara ini, tenaga haba akan sampai ke photoresist dan cakera, bukan ke komponen-komponen lain. Di seluruh kawasan aktif, suhu cakera dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C. Profil suhu juga dapat dikontrol dengan baik agar hasil pengeluaran tetap konsisten dari satu sesi ke sesi yang lain.
Sistem ini direka khusus untuk ruang bersih kelas 1–100: bahan-bahan yang digunakan mempunyai kadar pelepasan gas yang rendah, tingkap kuarsa yang tertutup rapat, dan saluran udara yang menghalang zarah-zarah daripada masuk ke dalam sistem tersebut. Tiada zarah yang dihasilkan, sebagaimana yang dapat dilihat melalui pemantauan secara langsung semasa ujian kelayakan. Sistem ini boleh beroperasi 24/7, tanpa gangguan yang tidak dijangka.
Mengapa ia sesuai untuk proses pengeluaran
Untuk pengeringan cakera, sistem inframerah ini dapat menghilangkan air pada permukaan cakera tanpa menyebabkan kejutan haba. Ini membolehkan masa proses pengeringan menjadi lebih singkat, dan kualiti produk tetap terjaga. Dalam proses pengolahan photoresist, sistem ini juga membantu mengawal suhu dengan baik, sehingga kualiti produk tetap konsisten.
Pada tahap cakera, pemanas ini membantu memastikan proses pengerasan dan pengasingan berjalan dengan baik, sambil memastikan suhu tetap terkawal dan kelengkungan cakera diminimumkan. Ini membolehkan pengeluaran yang lebih cepat, pengedaran yang lebih baik, dan pengurangan sisa bahan yang tidak digunakan.
Apa yang perlu dipersiapkan
Pemanas ini memerlukan sumber tenaga yang bersih dan kering, serta permukaan pemasangan yang stabil agar penyesuaian dan kekonsistenan suhu dapat dicapai. Ia serasi dengan kaedah pengendalian FOUP standard dan antaramuka SEMI. Namun, integrasinya perlu mengambil kira perbezaan emisiviti antara pelbagai lapisan dan substrat. Kami menyediakan matriks kalibrasi untuk setiap resep yang digunakan.
Perlu ada pemeriksaan berkala dan pengesahan suhu. Keprecisan tidak boleh dicapai secara kebetulan—ia perlu dipelihara secara berterusan.