Aquecedor para sistema de secagem de wafers industriais
Na linha de produção, uma variação de temperatura inferior a 1°C na câmara de secagem já é suficiente para tornar todo um lote inválido. As bolachas...
Aquecedor de tipo CSP em nível de wafer (Chip Scale Package)
Na área de litografia, um wafer de 300 mm não tem tempo suficiente para que o forno consiga aquecê-lo adequadamente. As variações no processo de...
Suporte técnico para aquecimento de wafers
Na linha de produção, uma variação de 0,5°C na temperatura do wafer já é suficiente para causar desvios na espessura da camada fotoreacional,...
Infravermelho vs Convecção para secagem de wafers
Na linha de 300 mm, o tempo de parada não planejado e as partículas são os principais problemas. Os fornos de convecção têm sido usados para secar e...