Üretim alanında, waf üzerindeki sıcaklık farkının 0,5°C olması bile, hassas fotorezist işlemlerinin bozulmasına ve atık üretilmesine neden olabilir. Bu ısıtma platformunu, işlem sırasındaki termal davranışların sabit kalmasını sağlamak için geliştirdik.
Önemli olanlar:
Waf üzerinde ±0,1°C’lik bir sabit sıcaklık düzeyi sağlanır ve ayar noktasının tekrarlanabilirliği de aynı tolerans aralığında kalır. Bu platform, temiz oda koşullarına uygun olarak tasarlanmıştır; Class 1–100 standartlarına göre üretilmiştir ve parça üretimi sırasında herhangi bir partikül üretmez.
Kuvars izolasyonlu ısıtma bölgeleri sayesinde kısa dalga ve orta dalga kızılötesi ışınlar kullanılarak hızlı ve temas gerektirmeyen bir ısıtma sağlanır. Böylece waf yüzeyine zarar verilmeden sıcaklık kontrolü sağlanır. Yumuşak ve sert ısıtma profilleri sayesinde işlemler tutarlı bir şekilde gerçekleşir ve sistem hızla stabilize olur; bu da ısınma süresini ve enerji tüketimini azaltır.
Litografide neden önemli?
Litografide bu hassasiyet, daha az yeniden işleme gerekliliği, daha düşük kusur oranı ve sabit bir CD kontrolü anlamına gelir. Daha sıkı sıcaklık kontrolü, fotorezistin performansını artırır ve kenarlardaki sapmaları azaltır; kimyasal ayarlamalara gerek kalmaz.
Enerji tüketimi azalır çünkü platform hızla ayar noktasına ulaşır ve orada sabit kalır. 7/24 çalışacak şekilde tasarlanmıştır ve minimum arıza ile çalışır. Bunun sonucunda daha yüksek verimlilik, daha az atık ve waf başına daha düşük maliyet elde edilir.
Önceden planlanması gerekenler:
Platformun termal stabiliteyi ve temiz oda koşullarını sağlayabilmesi için özel bir güç kaynağı ve temiz, kuru hava tedariki gereklidir. Montaj toleransları oldukça dar olduğundan, ray arayüzüne uygun olarak özel bir alan planlanmalıdır.
Fotorezistin özelliklerine uygun ısıtma profillerinin belirlenmesi için kısa bir kurulum süresi gerekmektedir. Kalibrasyondan sonra ise işlem sürekli olarak istikrarlı bir şekilde devam eder.