标签为“技术”的页面如下 晶圆加热的技术支持 在晶圆制造过程中,只要晶圆表面的温度出现0.5°C的波动,就足以导致光刻胶的烘烤效果不佳,进而造成成品率下降。我们设计的这个加热平台,就是为了确保每批晶圆在处理过程中的温度始终处于理想范围内。 关键参数 我们能够保持晶圆表面Temperature的稳定性在±0.1°C范围内,而设定点的重复性也保持... Read more...
晶圆加热的技术支持 在晶圆制造过程中,只要晶圆表面的温度出现0.5°C的波动,就足以导致光刻胶的烘烤效果不佳,进而造成成品率下降。我们设计的这个加热平台,就是为了确保每批晶圆在处理过程中的温度始终处于理想范围内。 关键参数 我们能够保持晶圆表面Temperature的稳定性在±0.1°C范围内,而设定点的重复性也保持... Read more...