在晶圆制造过程中，只要晶圆表面的温度出现0.5°C的波动，就足以导致光刻胶的烘烤效果不佳，进而造成成品率下降。我们设计的这个加热平台，就是为了确保每批晶圆在处理过程中的温度始终处于理想范围内。
关键参数 我们能够保持晶圆表面Temperature的稳定性在±0.1°C范围内，而设定点的重复性也保持在同一误差范围内。该平台适用于洁净室环境，专为1级到100级的洁净度标准而设计，且不会产生任何颗粒物。
通过石英隔离的短波和中波红外加热方式，可以实现快速、非接触式的加热效果。这样就可以精确控制温度，同时不会损坏晶圆表面。柔和的烘烤与强烈的烘烤模式可以确保每次处理的稳定性，从而缩短预热时间并减少能量消耗。
为什么它适合用于光刻工艺 在光刻工艺中，这样的精确控温能力意味着需要返工的晶圆数量减少，缺陷密度降低，同时还能保持良好的CD精度。更精确的温度控制还能提升光刻胶的性能，减少边缘缺陷的产生，无需对化学配方进行任何调整。
由于该平台能够迅速达到设定温度并保持稳定，因此能耗也会降低。它被设计为可以24/7持续运行，几乎不需要停机维护。这样一来，就能提高生产效率，减少废品率，从而降低每片晶圆的成本。
需要提前考虑的因素 该平台需要独立的电源供应以及干净、干燥的空气供应，这样才能保证其热稳定性及符合洁净室标准。安装要求非常严格——必须按照规定的位置进行安装。此外，还需要一定的调试时间来使加热参数与所使用的光刻胶相匹配。一旦校准完成，该系统就能稳定运行了。