Нагреватель для промышленной системы сушки вафер
На производственном участке достаточно даже незначительного изменения температуры в камере сушки – на уровне менее 1°C – чтобы вся партия продукции...
Нагреватель уровня ваферного пакетирования CSP (Chip Scale Package)
На этапе литографии у пластин диаметром 300 мм нет времени на то, чтобы печь смогла полностью прогреть их. При мягкой обработке происходит изменение...
Техническая поддержка нагрева пластинок
На производственном участке достаточно всего лишь изменения температуры на 0,5°C на поверхности кристалла, чтобы это привело к смещению ширины линий...
Фотогальванический нагреватель на кремниевой пластине
На производственном участке все понятно: отклонение температуры запекания фоторезиста всего на 0,5°C — и ваши критические размеры выходят из...